PVD工艺介绍
发布人:管理者 发布时间:2019-04-231:技术介绍
PVD电镀源于工具表面的硬化处理,由于良好的附着力,优异的硬度,和环保的生产方式,到90年代末已经成功用于手表的表面处理,之后也成功推行到手机行业。
PVD属于气相物理沉积,仅用水基清洗剂清洗干净工件表面,即可进入真空炉中,通过对金属靶材的离子轰击和电场效应,使得需要的金属或金属化合物沉积在工件的表面。
2:工艺流程
工件上水洗挂具---清洗—烘干---检验—上真空挂具---炉内电镀-----出炉----下挂---检验---包装
真空电镀常用的种类
1):IPS,是金属Gr的化合物,表面坚硬,颜色接近不锈钢,硬度远硬于不锈钢,用于华为的A-U121面壳装饰件
2):IP铬,是纯金属Gr,耐腐蚀优良,表面银白带蓝色,光彩夺目,完全取代六价Gr水镀过程。
3):IPG,是炉内Ti的氮化物和金合金的复合镀层,既有金的华贵大方,又有工具镀层的耐磨特质,可以全部或部分代替黄金镀层用于手机壳的装饰。
4):IP枪:是金属Ti和C的化合物,镀层从纯黑到枪黑有多种稳定的颜色用于装饰,黑色镀层典雅大方,广泛用于手机的装饰目的。
5): 除上述以外,还有IP兰,IP咖啡色等等,一些新的颜色镀种还在不断开发之中,
6):近年来随着UV喷涂,电泳技术的普及,防指纹技术的日臻成熟,PVD电镀的应用会更加广泛的应用到手机行业。
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